出版时间:2013-4 作者:赵时璐
内容概要
《多弧离子镀沉积过程的计算机模拟》系统介绍了多弧离子镀沉积过程的计算机模拟。全书共分13章,主要内容包括:绪论;真空镀膜技术的介绍;多弧离子镀沉积过程模拟的理论基础;多弧离子镀物理过程的分析;计算机模拟技术;数学模型的建立;程序的编制;模拟的结果;模拟结果的讨论与验证;6个模块的主要程序代码等。
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