出版时间:2007-1 出版社:国防工业出版社 作者:余怀之 页数:390
内容概要
本书对红外光学材料的光学、力学和热学性质,红外光学材料的各种制备工艺作了详细的论述,对于窗口和整流罩应用的CVD金刚石作了简单的讨论,最后对红外光学窗口和整流罩使用中必不可少的增透膜和保护膜作了较详细的论述。从而展现了目前红外光学材料在尺寸和性能上所达到的水平。 本书可作为从事红外光学材料研制及红外光电传感系统设计和使用的工程技术人员参考,也可作为大专院校相关专业学生的参考书。
书籍目录
第一章 红外光学材料基础 1.1 引言 1.2 大气窗口 1.3 黑体辐射——普朗克辐射定律 1.4 波动方程和光学常数 1.5 反射和折射 1.6 薄膜光学 1.7 折射指数和色散 1.8 在各向异性介质中光的传播——双折射 1.9 透明介质中光的散射 1.10 透明介质热辐射的发射率 1.11 断裂强度和断裂韧性 1.12 断裂强度的统计分析 1.13 抗热冲击品质因子 参考文献第二章 红外光学材料的光学性质 2.1 引言 2.2 反射 2.3 透过率和吸收系数及与温度的关系 2.4 折射指数、色散和折射指数与温度的关系 2.5 散射 2.6 发射率 2.7 红外光学材料的微波透射性质 参考文献第三章 红外光学材料的力学与热学性质 3.1 引言 3.2 红外光学材料的力学和热学性质 3.3 红外光学材料的硬度及其影响因素 3.4 约外光学材料断裂强度及其影响因素 3.5 蓝宝石单晶的高温强度 3.6 红外光学材料的断裂韧性 3.7 红外光学材料抗热冲击品质因子 3.8 因体粒子对红外光学元件表面的腐蚀 3.9 液体粒子对红外光学元件表面的腐蚀 参考文献第四章 红外光学材料的制备方法和工艺 4.1 引言 4.2 热压工艺 4.3 烧结、热压烧结和热等静压法 4.4 纳米和亚微米氧化物透明陶瓷的制备 4.5 熔体定向凝固法 4.6 导模法(EFG) 4.7 直拉生长法(Czochralski法) 参考文献第五章 化学汽像沉积制备红外光学材料 5.1 引言 5.2 化学汽相沉积基础 5.3 CVD ZnS和CVD ZnSe 5.4 CVDβ-SiC 5.5 CVD GaP 5.6 CVD Si3N4 参考文献第六章 金刚石光学材料第七章 增透膜和保护膜参考文献
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